刀带表面涂层以增效和延寿为目的，是将耐高温、耐磨损的材料涂覆在刀带基体材料表面。涂层作为一个化学屏障和热屏障，减少了刀具与工件间的扩散和化学反应，从而减少了刀带的月牙槽磨损。刀带涂层具有表面硬度高、耐磨性好、化学性能稳定、耐热耐氧化、摩擦因数小和热导率低等特性。目前，常用的刀带涂层方法有化学气相沉积法(CVD)、物理气相沉积法(PVD)、等离子体化学气相沉积法(PCvD)、热喷涂法和离子束辅助沉积法(IBAD)，其中以PVD和CVD应用最为广泛。

刀带的涂层技术目前已经成为提高刀具性能的关键技术。在涂层工艺方面，CVD仍然是可转位刀片的主要涂层工艺，开发了中温CVD、厚膜Al等新工艺，在基体材料改善的基础上，使CVD涂层刀带的耐磨性和韧性都得到提高。CvD涂层技术的未来发展方向是高性能cVD刀具涂层工艺技术及装备制造技术，包括制备厚膜A120的关键工艺技术、微粒光滑的A120膜的制备技术，防腐真空获得系统及气体输入系统的研究开发，洁净反应源的研究及废弃(气)物后处理技术。PvD同样取得了重大进展，开发了适应高速切削、干切削、硬切削的耐热性更好的涂层，如纳米、多层结构等，从最早的TiN涂层到TiCN、TiAlN、A1203、CrN、ZrN、CrAlN、TiSiN、TiAlsiN、AlCrSiN等硬涂层及超硬涂层材料。PVD涂层技术的未来发展方向是类金刚石涂层、CBN涂层、大面积等离子涂层技术。等离子体化学气相沉积法(PcVD)是将高频微波导人含碳化物气体产生高频高能等离子，或者通过电极放电产生高能电子使气体电离成为等离子体，由气体中的活性碳原子或含碳基团在合金的表面沉积的一种涂层制备方法。等离子体对化学反应有促进作用，使等离子体化学气相沉积法可以把沉积温度降至600℃以下。在该温度下，刀具基体与涂层材料之间不会发生扩散、交换反应或相变，刀具基体可以保持原有的强韧性。

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